刘玉岭
主要研究方向:微电子技术与材料
学术称号
国家级有突出贡献中青年专家、全国高校、天津市科技优秀先进工作者、河北省高层次拔尖人才、河北省资深省管优秀专家、河北省首届十大发明家、河北省后备院士人才、河北省政府“巨人计划”领军人才、天津市劳动模范。国家cmp联盟咨询委员会专家、中国清洗协会技术委员会理事长（曾）、微纳电子技术常务理事、半导体技术理事。
所获奖项及重大科研成果
1．1987年，硅外延bc技术，科技部国家技术发明奖三等奖
2. 1990年，硅片无磨料均腐蚀fa/o抛光液，科技部国家技术发明奖三等奖
3. 1990年，硅器件衬底片滑移线消除技术，科技部国家技术发明奖四等奖
4. 1999年，用化学方法提高固体表面光洁度的研究及应用，科技部国家技术发明奖三等奖
5. 2002年，超大规模集成电路纳米磨料化学机械全局平面化新技术，天津科委天津市技术发明奖一等奖
6. 1983年，fno-mos型抛光液，科技部国家技术发明奖四等奖
7. 2006年，固定表面高精密加工技术及专用纳米材料，天津科委天津市技术发明奖二等奖
8. 1993年，硅器件与外延材料关系的研究，河北省政府河北省科技进步奖二等奖
9. 1997年，fa/o高纯多功能界面活性剂的研究及在微电子中应用，天津市政府天津市科学技术进步奖二等奖
10. 2013年，河北省科学技术突出贡献奖，河北省政府河北省科学技术突出贡献奖
11、20-14nm集成电路碱性抛光液与清洗液的研发，国家02重大专项，2016-2018，首席专家
12、极大规模集成电路平坦化工艺与材料，国家02重大专项前瞻性应用示范项目，2009-2012，主持。成果获得优秀，结论：原始创新、性能先进、适用于工业应用。
